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透镜有塑胶透镜(plastic)和玻璃透镜(glass)两种，玻璃透镜比塑胶贵。通常摄像头用的镜头构造有：1P、1G1P、1G2、2G2P、4G等，透镜越多，反光杯注塑，成本越高。因此一个品质好的摄像头应该是采用玻璃镜头的，其成像效果要比塑胶镜头好。镜头对成像质量也有极大影响，好的镜头使图像更加清晰、细腻。一般投影仪的镜头都是变焦镜头，反光杯注塑价格，针对市场的不同，反光杯注塑订做，变焦倍数从4倍到16倍或更高。

真空镀膜设备在集成电路制造中的应用

　　1.晶体管路中的保护层（SiO2、Si3N4）、多弧离子镀膜机电极管线（多晶硅、铜及其合金）等多是采用CVD技术、PVCD技术、真空蒸发金属技术、磁控溅射技术和射频溅射技术。可见气相沉积术制备集成电路的核心技术之一。

　　2.真空镀膜设备在传感器方面的应用

　　在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、高真空镀膜机化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。此外，其中大多数利用的是半导体的表面、界面的性质，需要尽量增大其面积，且能工业化、***格制作、因此采用薄膜的情况很多

真空镀膜应用是真空应用中的一个大分支，在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。为了让大家更详细的了解真空镀膜的应用，今天小编详细为大家介绍真空镀膜应用的主要几种方法，希望对大家有用！

真空镀膜应用，简单地理解就是在真空环境下，利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法，反光杯注塑供应，在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：

真空蒸镀

其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。

溅射镀膜

溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。

离子镀膜

即干式螺杆真空泵厂家已经介绍过的真空离子镀膜。它是在上面两种真空镀膜技术基础上发展而来的，因此兼有两者的工艺特点。在真空条件下，利用气体放电使工作气体或被蒸发物质（膜材）部分离化，并在离子轰击下，将蒸发物或其反应物沉积在基片表面。在膜的形成过程中，基片始终受到高能粒子的轰击，十分清洁。

真空卷绕镀膜

真空卷绕镀膜是一种利用物***相沉积的方法在柔性基体上连续镀膜的技术，以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。

上述四种都属于物***相沉积技术应用（PVD）。

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