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反光杯注塑镀膜生产厂家服务至上 锦城镀膜公司

发布时间:2020-03-12 04:22:20        






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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :

电子的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,在该区中电离出大量的离子用来轰击靶材,从而实现了磁控溅射沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子的能量逐渐降低,同时逐步远离靶面。②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的纯度极为重要。低能电子沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场的作用下***终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,致使基片温升较低。由于磁极轴线处电场与磁场平行,电子将直接飞向基片。但是在磁控溅射装置中, 磁极轴线处离子密度很低, 所以这类电子很小,对基片温升作用不大。

物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :

1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,真空蒸镀为0.1-1eV,溅射为1-10eV,离子镀为0.1-1eV(此外还有高能中性原子)。

2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),离子镀为0.1-50μm/min。

有机镀膜与无机镀膜的根本区别

真正的玻璃镀膜应为纯无机质成分,成膜后不应含有任何j基团(CH3)。利用红外线光谱吸收分析法,可以了解各种镀膜原料的内部化学成分,这是区别真假无机质镀膜产品的重要科学依据。



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