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经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 广东 佛山 |
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公司地址: | 广东省佛山市顺德区乐从镇良村工业区北区6号 |
发布时间:2020-10-13 14:15:04
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从镀膜的原理及特点看,真空蒸镀工件不带电,真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面,沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极,靶为阴极,利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上,沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。利用红外线光谱吸收分析法,可以了解各种镀膜原料的内部化学成分,这是区别真假无机质镀膜产品的重要科学依据。离子镀的工件为阴极,蒸发源为阳极,进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件,并在工件表面沉积成膜,沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用,粒子的能量决定于阴极上所加的电压。
物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从膜层特点看,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;近年来,为了提高加热器的寿命,国内外已采用寿命较长的氮化硼合成的导电陶瓷材料作为加热器。溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性很好,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上。减小占空比有利于***打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。
电子束蒸发源的优点为:①电子束轰击热源的束流密度高,能获得远比电阻加热源更大的能量密度。可以使高熔点(可高达3000°C以上)材料蒸发,并且能有较高的蒸发速度;真空镀膜之多弧离子镀:该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。②由于被蒸发材料是置于水冷堆锅内,因而可避免容器材料的蒸发,以及容器材料与蒸镀材料之间的反应,这对提高镀膜的纯度极为重要;③热量可直接加到蒸镀材料的表面,因而热,热传导和热辐射的损失少。
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